9厂变成了半导体设备厂。
“首长，我服从安排，请首长帮忙，从三家研究所及其配套工厂的干部中，再给公司配备一名副总经理、一名光刻机研究院院长和一名副院长，我只负责公司的重大决策。”
虽然孙健明白留他下来肯定谈论如何振兴国产光刻机的大事？但做梦也没有想到，国家竟然将国内三家研发和生产光刻机等半导体生产设备的核心研究机构及其配套工厂交给他，成立京城半导体设备股份有限责任公司，简称bsec，由淘宝控股公司投资控股，担任法人，领导国内光刻机等半导体生产设备的研发和生产。
任务艰巨而光荣！
国内光刻机等半导体设备的研发和生产处于半停滞状态，技术水平与当今世界光刻机龙头企业尼康公司相差十年以上。
六一年，成立三年的gca美国地球物理公司造出了世界第一台接触式光刻机。
七十年代，尼康公司和佳能公司开始进入这个领域，作为光学行业的顶级巨鳄，相机里的一块cmos感光元件，技术难度都比当时的光刻机不知道高多少倍？如鱼得水！
七十年代，kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年，cobilt公司做出了自动生产线，但接触式机台后来被接近式机台所淘汰。
七三年，拿到美国军方投资的p＆e公司推出了投影式光刻系统， 搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。
七八年，gca推出了世界上第一台商用步进光刻机dsw4800，该机器使用g线汞灯和蔡司光学元件，以10:1的比例将芯片线路成像到十毫米见方区域。
八零年，尼康公司率先推出日本首台kr商用步进光刻机nsr1010g，能够以五倍的分辨率的减少实现1μm制程工艺，生产比gca更高分辨率的镜头吸引客户。
ibm、ii、amd和hp等美国半导体公司，在公司利益面前果断放弃美国利益，纷纷掉头投入尼康公司的怀抱。
在尼康公司的打压下，gca的高端市场份额不断减少，在八五年、八六年损失一亿美元，不得不裁员七成；八八年，美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的gca，为了与尼康竞争，sematech美国半导体制造技术战略联盟资助gca开发成功kr光刻机，实现了1μm制程工艺，但尼康光刻机的制程工艺提升到800nm，gca的高端市场份额没有多大起色。
六六年，中k院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。
八一年，中k院半导体研究所研制成功jk1半自动接近式光刻机。
八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功kha751型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的型。