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第826章 芯片(下)

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    “江总,情况可能没有你想象的那么乐观”,听到江辉的话,朱正峰还是忍不住泼了一盆冷水。

    虽然江辉也没有表示出,“哦,原来芯片行业并不难”这种想法,但是从刚才那话的语气来看,似乎认为国内有中芯这些企业在搞芯片了,光辉集团要是进入这个领域的话,花钱买买设备,挖挖人,就出成绩了。

    这可把朱正峰给吓坏了。

    要是江辉整的扔个几百亿进去,然后就要去朱正峰搞出一个接近国际主流水平的芯片企业出来,那朱正峰可就得愁死了。

    “我这次来深市,会呆一周左右,乘着这个机会,你干脆好好的给我介绍一下手机行业的核心零部件的情况吧”,江辉说道。

    “没问题,那我们就先接着继续说芯片的情况吧。在国内,投资芯片行业面临着至少三个问题”,朱正峰开始继续他的分析。

    “第一就是设备,芯片生产涉及的制造设备种类非常多,价格都非常昂贵,其中最重要的是光刻机。光刻机的生产厂家并不多,在45纳米以上线宽的时代,岛国的佳能和尼康都能制造,但是等到芯片的制程工艺进步到十几纳米以下时,佳能和尼康目前已经不具备这方面的光刻机技术”。

    “最先进的光刻机技术是不是被欧洲一家什么公司给垄断了?”,江辉插话道。

    前世,光刻机的问题也曾经一度在互联网上吵的沸沸扬扬,江辉多多少少都听说过相关的一些信息,只不过记不住具体的详细内容了。

    “是的,世界上最先进的光刻机厂家就是ASML,估计不用多久,是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司,主要股东是飞利浦,但三星,台积电和英特尔都占有股份。”

    “ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TINSCAN机型,例如英特尔,三星,台积电,中芯国际等”,朱正峰继续介绍道。

    “除了目前致力于开发的TINSCAN平台外,ASML还在积极与IMEC, IBM等半导体公司合作,开发下一代光刻技术,比如EUV(极紫外线光刻),用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。

    同时,基于传统TINSCAN平台的双重曝光等新兴技术,也在进一步成熟和研发过程当中。去年末三星宣布成功生产的36纳米闪存,基于的便是双重曝光技术。”

    “三星的36纳米的芯片都已经开始生产啦?”,江辉有点吃惊的问道。

    “是的,中芯刚刚拿到45纳米的技术授权,连技术都还没有开始吃透,更不用说工厂建设和量产了,但是三星作为国际主流的芯片厂家,已经开始量产36纳米的芯片了”,朱正峰有点感慨的说道。

    “你说的第一个问题就是设备,难道是说ASML不肯卖光刻机给天朝?”,江辉问道。

    “江总,你猜对了一半。也不能完全说ASM

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